Silīcija karbīda horizontālā laivas plāksne

Silīcija karbīda horizontālās laivas plāksnes piedāvātais attēls

Īss apraksts:

Semicera nodrošina vafeļu laivas, turētājs, un pielāgoti vafeļu nesēji vertikālām/kolonnu un horizontālām konfigurācijām.Uzlabotā keramika nodrošina izcilu karstumizturību un plazmas izturību, vienlaikus samazinot daļiņas un piesārņotājus.Pusvadītāju klases silīcija karbīds (SiC) nodrošina arī augstas temperatūras izturību lieljaudas plāksnīšu nesējiem.

Nosūtiet mums e-pastu

Produkta informācija

Produktu etiķetes

Iepazīstinām ar mūsu vismodernāko silīcija karbīda horizontālo laivu plāksni, kas ir rūpīgi izstrādāta pusvadītāju nozares vafeļu apstrādes lietojumprogrammām.Izgatavota no vislabākā silīcija karbīda, mūsu horizontālā laivas plāksne izceļas ar izcilām termiskajām īpašībām, ķīmisko izturību un mehānisko izturību.Šī laivas plāksne ir ideāli piemērota augstas temperatūras procesiem, un tā ir izstrādāta tā, lai nodrošinātu izcilu veiktspēju, nodrošinot precizitāti un efektivitāti katrā lietošanas reizē.

Galvenās iezīmes

Izcila izturība:Izgatavots no augstas tīrības pakāpes silīcija karbīda, mūsu laivas plāksneir konstruēts tā, lai izturētu ārkārtējas temperatūras līdz1600°C, piedāvājot nepārspējamu izturību un kalpošanas laiku.

Vienmērīga siltuma sadale:Silīcija karbīda siltumvadītspēja nodrošina vienmērīgu siltuma sadali pa plāksni, kas ir ļoti svarīga procesa konsekvences saglabāšanai un augstas kvalitātes vafeļu ražošanas sasniegšanai.

Ķīmiskā izturība:Mūsu laivas plāksne, kas ir izturīga pret korozīvām ķīmiskām vielām un skarbu vidi, saglabā integritāti un veiktspēju pat visprasīgākajos pusvadītāju apstrādes lietojumos.

Augsta mehāniskā izturība:Mūsu robustā konstrukcijalaivas plāksnegarantē izcilu mehānisko izturību un nodilumizturību, samazinot bojājumu risku un nepieciešamību pēc biežas nomaiņas.

Lietojumprogrammas:

MūsuSilīcija karbīda horizontālā laivas plāksneir lieliski piemērots plašam augstas temperatūras procesu klāstam pusvadītāju ražošanā, tostarp, bet ne tikai, difūzijas, oksidācijas, jonu implantācijas un CVD procesiem.Tās dizains un materiāli nodrošina, ka tas spēj nodrošināt precīzas vafeļu apstrādes prasības, padarot to par būtisku sastāvdaļu pusvadītāju ražošanas līnijās.

Par mums