SiC pārklājuma process grafīta bāzes SiC pārklātiem grafīta nesējiem

SiC pārklājuma process grafīta bāzes SiC pārklājumu grafīta nesējiem Piedāvātais attēls

Īss apraksts:

Semicera Energy Technology Co., Ltd. ir vadošais uzlabotas pusvadītāju keramikas piegādātājs.Mūsu galvenie produkti ir: silīcija karbīda kodinātie diski, silīcija karbīda laivu piekabes, silīcija karbīda vafeļu kuģi (PV & Semiconductor), silīcija karbīda krāsns caurules, silīcija karbīda konsoles lāpstiņas, silīcija karbīda patrona, silīcija karbīda sijas, kā arī CVD un SiC pārklājumi. TaC pārklājumi.
Produktus galvenokārt izmanto pusvadītāju un fotoelementu rūpniecībā, piemēram, kristālu augšanas, epitaksijas, kodināšanas, iepakošanas, pārklāšanas un difūzijas krāšņu iekārtās.

Nosūtiet mums e-pastu

Produkta informācija

Produktu etiķetes

Apraksts

Lietojot, mēs saglabājam ļoti tuvas pielaidesSiC pārklājums, izmantojot augstas precizitātes apstrādi, lai nodrošinātu vienotu susceptora profilu.Mēs arī ražojam materiālus ar ideālām elektriskās pretestības īpašībām izmantošanai induktīvi apsildāmās sistēmās.Visām gatavajām sastāvdaļām ir tīrības un izmēru atbilstības sertifikāts.

Mūsu uzņēmums nodrošinaSiC pārklājumsapstrādes pakalpojumus ar CVD metodi uz grafīta, keramikas un citu materiālu virsmām, lai īpašās oglekli un silīciju saturošās gāzes augstā temperatūrā reaģētu, lai iegūtu augstas tīrības pakāpes SiC molekulas, molekulas, kas nogulsnējas uz pārklājamo materiālu virsmas, veidojot SIC aizsargslāni.Izveidotais SIC ir cieši saistīts ar grafīta pamatni, piešķirot grafīta pamatnei īpašas īpašības, tādējādi padarot grafīta virsmu kompaktu, bezporainību, izturību pret augstu temperatūru, izturību pret koroziju un oksidācijas izturību.

gf (1)

CVD process nodrošina ārkārtīgi augstu tīrību un teorētisko blīvumuSiC pārklājumsbez porainības.Turklāt, tā kā silīcija karbīds ir ļoti ciets, to var pulēt līdz spoguļam līdzīgai virsmai.CVD silīcija karbīda (SiC) pārklājumsnodrošināja vairākas priekšrocības, tostarp īpaši augstas tīrības virsmu un izcilu nodilumizturību.Tā kā pārklājuma izstrādājumiem ir lieliska veiktspēja augsta vakuuma un augstas temperatūras apstākļos, tie ir ideāli piemēroti lietošanai pusvadītāju rūpniecībā un citā īpaši tīrā vidē.Mēs piedāvājam arī pirolītiskā grafīta (PG) izstrādājumus.

Galvenās iezīmes

1. Augstas temperatūras oksidācijas izturība:
oksidācijas pretestība joprojām ir ļoti laba, ja temperatūra ir pat 1600 C.
2. Augsta tīrība: izgatavots ar ķīmisku tvaiku nogulsnēšanos augstās temperatūras hlorēšanas apstākļos.
3. Izturība pret eroziju: augsta cietība, kompakta virsma, smalkas daļiņas.
4. Izturība pret koroziju: skābes, sārmi, sāls un organiskie reaģenti.

Galvenā-05

Galvenais-04

Galvenā-03

Galvenās CVD-SIC pārklājumu specifikācijas

SiC-CVD
Blīvums	(g/cc)	3.21
Liekšanas spēks	(Mpa)	470
Termiska izplešanās	(10-6/K)	4
Siltumvadītspēja	(W/mK)	300

Pieteikums

CVD silīcija karbīda pārklājums jau ir izmantots pusvadītāju rūpniecībā, piemēram, MOCVD paplātē, RTP un oksīda kodināšanas kamerā, jo silīcija nitrīdam ir liela termiskā trieciena izturība un tas var izturēt augstas enerģijas plazmu.
-Silīcija karbīds tiek plaši izmantots pusvadītājos un pārklājumos.

Pieteikums

Piegādes spēja:
10000 gab./gab. mēnesī
Iepakojums un piegāde:
Iepakojums: standarta un spēcīgs iepakojums
Polijas soma + kaste + kartona kārba + palete
Ports:
Ningbo/Šenžeņa/Šanhaja
Izpildes laiks: