Ar silīcija karbīdu pārklāts mucas uztvērējs

Īss apraksts:

Semicera piedāvā plašu susceptoru un grafīta komponentu klāstu, kas paredzēts dažādiem epitaksijas reaktoriem.

Izmantojot stratēģiskas partnerattiecības ar nozares vadošajiem oriģinālo iekārtu ražotājiem, plašas materiālu zināšanas un uzlabotas ražošanas iespējas, Semicera piedāvā pielāgotus dizainus, kas atbilst jūsu lietojumprogrammas īpašajām prasībām. Mūsu apņemšanās sasniegt izcilību nodrošina, ka jūs saņemat optimālus risinājumus savām epitaksijas reaktora vajadzībām.

 

 


Produkta informācija

Produktu etiķetes

Mūsu uzņēmums nodrošinaSiC pārklājumsapstrādes pakalpojumi uz grafīta, keramikas un citu materiālu virsmām ar CVD metodi, lai īpašās oglekli un silīciju saturošas gāzes varētu reaģēt augstā temperatūrā, iegūstot augstas tīrības pakāpes Sic molekulas, kuras var nogulsnēt uz pārklātu materiālu virsmas, veidojotSiC aizsargslānisepitaksijas stobra tipam hy pnotic.

 

Galvenās iezīmes:

1. Augstas tīrības pakāpes SiC pārklāts grafīts

2. Superior siltuma pretestība un termiskā viendabīgums

3. LabiSiC kristāla pārklājumsgludai virsmai

4. Augsta izturība pret ķīmisko tīrīšanu

 
Ar silīcija karbīdu pārklāts mucas uztvērējs

Galvenās specifikācijasCVD-SIC pārklājums

SiC-CVD īpašības

Kristāla struktūra FCC β fāze
Blīvums g/cm³ 3.21
Cietība Vickers cietība 2500
Graudu lielums μm 2~10
Ķīmiskā tīrība % 99,99995
Siltuma jauda J·kg-1 ·K-1 640
Sublimācijas temperatūra 2700
Uzturēšanās spēks MPa (RT 4 punkti) 415
Young's Modulus Gpa (4 punktu līkums, 1300 ℃) 430
Termiskā izplešanās (CTE) 10-6K-1 4.5
Siltumvadītspēja (W/mK) 300

 

 
2--cvd-sic-purity---99-99995-_60366
5----sic-crystal_242127
Semicera Darba vieta
Semicera darba vieta 2
Iekārtas mašīna
CNN apstrāde, ķīmiskā tīrīšana, CVD pārklājums
Mūsu pakalpojums

  • Iepriekšējais:
  • Nākamais: