Tonera ražošanā izmantotie izejmateriāli parasti ir pārslu grafīts, naftas kokss un mikrokristāliskā akmens tinte.Jo augstāka ir grafīta tīrība, jo augstāka ir lietošanas vērtība.Grafīta attīrīšanas metodes var iedalīt fizikālās metodēs un ķīmiskās metodēs.Fizikālās attīrīšanas metodes ietver flotācijas un augstas temperatūras attīrīšanu, un ķīmiskās attīrīšanas metodes ietver skābes bāzes metodi, fluorūdeņražskābes metodi un hlorīda grauzdēšanas metodi.
Tostarp augstas temperatūras attīrīšanas metode var izmantot grafīta augsto kušanas temperatūru (3773K) un viršanas temperatūru, lai sasniegtu 4N5 un augstāku tīrību, kas ietver piemaisījumu ar zemu viršanas temperatūru iztvaikošanu un emisiju, lai sasniegtu mērķi attīrīšana [6].Augstas tīrības tonera galvenā tehnoloģija ir netīrumu pēdu noņemšana.Apvienojumā ar ķīmiskās attīrīšanas un augstas temperatūras attīrīšanas īpašībām tiek pieņemts unikāls segmentēts salikts augstas temperatūras termoķīmiskās attīrīšanas process, lai panāktu augstas tīrības tonera materiālu attīrīšanu, un produkta tīrība var būt lielāka par 6N.
Produkta veiktspēja un īpašības:
1, produkta tīrība≥99,9999% (6N);
2, augstas tīrības pakāpes oglekļa pulvera stabilitāte, augsta grafitizācijas pakāpe, mazāk piemaisījumu;
3, precizitāti un veidu var pielāgot atbilstoši lietotājiem.
Produkta galvenie lietojumi:
■Augstas tīrības pakāpes SiC pulvera un citu cietās fāzes sintētisko karbīdu materiālu sintēze
■Audzējiet dimantus
■Jauni siltumvadītspējas materiāli elektroniskajiem izstrādājumiem
■Augstākās klases litija akumulatora katoda materiāls
■Izejvielas ir arī dārgmetālu savienojumi
-
Epitaksiskā reaktora muca ar silīcija karbīda pārklājumu
-
Augstas temperatūras un korozijas izturīga LED Si...
-
Mucas reaktors šķidrās fāzes epitaksijai
-
Antioksidācijas augstas tīrības pakāpes SiC pārklājums MOCVD paplāte
-
Pusvadītāju silīcija bāzes GaN epitaksija
-
Daļēji keramikas mucas reaktors: pusvadītāju pilnvarošana...