Mūsu uzņēmums nodrošinaSiC pārklājumsapstrādes pakalpojumi uz grafīta, keramikas un citu materiālu virsmām ar CVD metodi, lai īpašās oglekli un silīciju saturošas gāzes varētu reaģēt augstā temperatūrā, iegūstot augstas tīrības pakāpes Sic molekulas, kuras var nogulsnēt uz pārklātu materiālu virsmas, veidojotSiC aizsargslānisepitaksijas stobra tipam hy pnotic.
Galvenās iezīmes:
1. Augstas tīrības pakāpes SiC pārklāts grafīts
2. Superior siltuma pretestība un termiskā viendabīgums
3. LabiSiC kristāla pārklājumsgludai virsmai
4. Augsta izturība pret ķīmisko tīrīšanu
Galvenās specifikācijasCVD-SIC pārklājums
| SiC-CVD īpašības | ||
| Kristāla struktūra | FCC β fāze | |
| Blīvums | g/cm³ | 3.21 |
| Cietība | Vickers cietība | 2500 |
| Grauda izmērs | μm | 2~10 |
| Ķīmiskā tīrība | % | 99,99995 |
| Siltuma jauda | J·kg-1 ·K-1 | 640 |
| Sublimācijas temperatūra | ℃ | 2700 |
| Uzturēšanās spēks | MPa (RT 4 punkti) | 415 |
| Young's Modulus | Gpa (4 punktu līkums, 1300 ℃) | 430 |
| Termiskā izplešanās (CTE) | 10-6K-1 | 4.5 |
| Siltumvadītspēja | (W/mK) | 300 |
