Semicera nodrošina specializētus tantala karbīda (TaC) pārklājumus dažādām sastāvdaļām un nesējiem.Semicera vadošais pārklājuma process ļauj tantala karbīda (TaC) pārklājumiem sasniegt augstu tīrību, augstas temperatūras stabilitāti un augstu ķīmisko toleranci, uzlabojot SIC/GAN kristālu un EPI slāņu produktu kvalitāti (TaC susceptors ar grafīta pārklājumu) un pagarinot galveno reaktora sastāvdaļu kalpošanas laiku. Tantala karbīda TaC pārklājuma izmantošana ir paredzēta, lai atrisinātu malu problēmu un uzlabotu kristālu augšanas kvalitāti, un Semicera ir atklājusi tantala karbīda pārklājuma tehnoloģiju (CVD), sasniedzot starptautisku progresīvu līmeni.
Līdz ar 8 collu silīcija karbīda (SiC) plātņu parādīšanos prasības dažādiem pusvadītāju procesiem ir kļuvušas arvien stingrākas, īpaši epitaksijas procesiem, kur temperatūra var pārsniegt 2000 grādus pēc Celsija. Tradicionālie susceptoru materiāli, piemēram, grafīts, kas pārklāts ar silīcija karbīdu, mēdz sublimēt šajās augstajās temperatūrās, izjaucot epitaksijas procesu. Tomēr CVD tantala karbīds (TaC) efektīvi risina šo problēmu, izturot temperatūru līdz 2300 grādiem pēc Celsija un piedāvājot ilgāku kalpošanas laiku. Sazinieties ar Semiceru's Tantala karbīda TaC CVD pārklājuma vafeļu uztvērējslai uzzinātu vairāk par mūsu uzlabotajiem risinājumiem.
Pēc gadiem ilgas attīstības Semicera ir iekarojis tehnoloģijuCVD TaCar kopīgiem pētniecības un attīstības nodaļas pūliņiem. SiC vafeļu augšanas procesā ir viegli rasties defekti, bet pēc lietošanasTaC, atšķirība ir būtiska. Zemāk ir salīdzinājums vafeļiem ar un bez TaC, kā arī Simicera detaļām monokristālu audzēšanai.
ar un bez TaC
Pēc TaC lietošanas (pa labi)
Turklāt SemiceraProdukti ar TaC pārklājumuuzrāda ilgāku kalpošanas laiku un lielāku izturību pret augstu temperatūru, salīdzinot arSiC pārklājumi.Laboratorijas mērījumi ir parādījuši, ka mūsuTaC pārklājumivar pastāvīgi darboties temperatūrā līdz 2300 grādiem pēc Celsija ilgāku laiku. Tālāk ir sniegti daži mūsu paraugu piemēri:
