Semicera Semicera nodrošina specializētus tantala karbīda (TaC) pārklājumus dažādām sastāvdaļām un nesējiem.Semicera Semicera vadošais pārklājuma process ļauj tantala karbīda (TaC) pārklājumiem sasniegt augstu tīrību, augstas temperatūras stabilitāti un augstu ķīmisko toleranci, uzlabojot SIC/GAN kristālu un EPI slāņu produkta kvalitāti (TaC susceptors ar grafīta pārklājumu) un pagarinot galveno reaktora sastāvdaļu kalpošanas laiku. Tantala karbīda TaC pārklājuma izmantošana ir paredzēta, lai atrisinātu malu problēmu un uzlabotu kristālu augšanas kvalitāti, un Semicera Semicera ir atklājusi tantala karbīda pārklājuma tehnoloģiju (CVD), sasniedzot starptautisku progresīvu līmeni.
Pēc gadiem ilgas attīstības Semicera ir iekarojis tehnoloģijuCVD TaCar kopīgiem pētniecības un attīstības nodaļas pūliņiem. SiC vafeļu augšanas procesā ir viegli rasties defekti, bet pēc lietošanasTaC, atšķirība ir būtiska. Zemāk ir salīdzinājums vafeļiem ar un bez TaC, kā arī Simicera detaļām monokristālu audzēšanai.
ar un bez TaC
Pēc TaC lietošanas (pa labi)
Turklāt SemiceraProdukti ar TaC pārklājumuuzrāda ilgāku kalpošanas laiku un lielāku izturību pret augstu temperatūru, salīdzinot arSiC pārklājumi.Laboratorijas mērījumi ir parādījuši, ka mūsuTaC pārklājumivar pastāvīgi darboties temperatūrā līdz 2300 grādiem pēc Celsija ilgāku laiku. Tālāk ir sniegti daži mūsu paraugu piemēri:
-
Augstas tīrības pakāpes poraina tantala karbīda pārklājuma muca
-
Termiskā lauka materiāls silīcija karbīda raudāšanai...
-
CVD ar tantala karbīda pārklājumu pusmēness daļa
-
Pielāgots gredzens ar tantala karbīda pārklājumu
-
Grafīta gredzens ar tantala karbīda pārklājumu
-
Augstas tīrības tantala karbīda produktu pielāgošana